ADLC

   無(wú)定形金剛石硬質(zhì)合金材料含有大量的SP3而且具有所需的金剛石和石墨的優(yōu)良性能。批次一個(gè)批次指能在同一爐，同一時(shí)間進(jìn)行涂層的零件組陰極陰極是一個(gè)PVD語(yǔ)術(shù)，通常指陰極源或靶材，更嚴(yán)格地說(shuō)指陰極，是靶材安裝的極板，并在涂層工序中發(fā)生氣化。

    CVA

    鋁化化學(xué)氣相沉積過(guò)程擴(kuò)散鋁合金到部件表面，提高抗高溫能力，防腐和抗氧化性能。

    CVD

   化學(xué)氣相沉積過(guò)程是由反應(yīng)氣體通過(guò)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行涂層沉積，在標(biāo)準(zhǔn)的CVD情況下，該反應(yīng)在800—1050℃的高溫下進(jìn)行。工藝時(shí)間涂層時(shí)間是一個(gè)完整的過(guò)程，從一批次裝載到涂層、冷卻和卸載。

    微米

    微米是百萬(wàn)分之一米

    PACVD

   離子活化CVD或離子加強(qiáng)CVD，這是CVD的低溫（低于200℃）的加工過(guò)程，在PACVD情況下，通過(guò)RF電源進(jìn)**體反應(yīng)。

    PECVD

    離子加強(qiáng)CVD

    PVD

   物**相沉積是在涂層設(shè)備爐膛，通過(guò)靶材的氣化沉積涂層的物理過(guò)程。源源是PVD語(yǔ)術(shù)，它是一種裝置，用來(lái)裝夾靶材，同時(shí)包括觸發(fā)器，磁體，殼體和冷卻系統(tǒng)，源有時(shí)指陰極。

    sp2

    硬質(zhì)合金原子類(lèi)似于石墨

    sp3

    硬質(zhì)合金原子類(lèi)似于天然金剛石

    基體

    涂層是的基體材料

    靶材

    target是PVD語(yǔ)術(shù)，指被氣化的金屬材料，靶材與源一起通常范指陰極或源。